Главная -> Публикации -> Ползуновский вестник, 2004, № 4 ->

 

С. 23-26
АНАЛИЗ СРАВНИТЕЛЬНОЙ УСТОЙЧИВОСТИ РАДИКАЛОВ, ОБРАЗУЮЩИХСЯ ПРИ ФОТОТРАВЛЕНИИ ПОВЕРХНОСТИ МЕДИ ГАЛОГЕНСОДЕРЖАЩИМИ ПОЛИМЕРНЫМИ КОМПОЗИЦИЯМИ И КИНЕТИЧЕСКИЕ ЗАКОНОМЕРНОСТИ ОБРАЗОВАНИЯ ПРОДУКТОВ ФОТОТРАВЛЕНИЯ
Е.Е. Сироткина, А.И. Хлебников, Н.Г. Домина
Алтайский государственный технический университет,
Институт химии нефти СО РАН

Проведены квантово-механические расчеты энергии диссоциации связей компонентов фоточувствительной композиции методом MNDO для нормального и возбужденного состояния молекул. Показано, что предложенные фотосенсибилизаторы могут легко переходить в возбужденное состояние при облучении лампой ДРШ-500, после чего энергетически выгодным является образование радикальных интермедиатов поливинилхлорида в результате гомолитического разрыва связей С–Сl. Рассмотрены кинетические закономерности образования продуктов фототравления, в частности хлорида меди (I).

Полный текст статьи

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

  

Рейтинг@Mail.ru